この度、【ユーロフィンEAGxブルカージャパン ナノ表面計測事業部共催】にて半導体デバイスや材料の解析のための分析技術セミナーを開催することとなりました。ユーロフィンイーエージー株式会社より、TEM、SIMS、3D-APTなどの分析技術を用いた事例や最新の技術動向をご紹介。また、ブルカージャパン株式会社からは、AFM(原子間力顕微鏡)を用いた解析技術や、10 nmの微小異物を検出可能なナノ赤外分光装置「Dimension IconIR」について紹介いたします。皆様のご参加をスタッフ一同お待ちしております。
日時 | 2024年10月11日(金) 13:30~14:55 (13:15ログイン受付開始) |
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形式 | ウェビナー(オンラインによるWEBセミナー) ※ウェビナー配信サービスには「GoToWebinar」を利用致します。ブラウザ経由でのご視聴ですのでアプリのインストールの必要はございません。 ご所属先のインターネットのセキュリティーポリシーによってはGoToWebinarへのアクセスを拒否される場合がございます。その場合は、事前にご所属先のIT部門の方へアクセス許可のご相談いただくか、GotoWebinarへアクセスできる環境よりログイン下さい。(インビテーションを転送頂ければ、別のPC及び端末より参加頂けます。)ご不明点はお気軽に 弊社までお問合せ下さい。 |
参加費 | 無料(事前登録制) |
お申込み | 下記登録フォームよりお申込み下さい。 WEB登録フォーム ※対応ブラウザ Google Chrome, Edge, Firefoxとなります. |
時間 | 内容 (当日のプログラムは予告なく変更することがございます。) |
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13:30~13:35 | オープニング |
13:35~14:05 | 「半導体解析におけるTEM/SIMS/3D-APT分析技術のご紹介」 ユーロフィンイーエージーは主に半導体デバイス・材料・製造プロセス開発で必要なSIMS(二次イオン質量分析)やTEM(透過型電子顕微鏡)の受託サービス企業として約50年間お客様の課題解決に貢献してきました。 近年は特にAC-(S)TEMを使用した高分解能観察、EDS/EELSを使用した元素マッピング、さらに3D-APTを使用した3次元での元素情報の取得などの、半導体の分野に欠かせないナノメートルオーダーでの評価技術開発に注力してきました。 セミナーでは、TEM分析を中心に、SIMS分析や3D-APT分析の事例を交えながら、最新のNano-IRを含む、EAGの各種分析技術のご紹介をいたします ユーロフィンイーエージー株式会社 |
14:05~14:25 | 「AFMを用いた半導体解析技術」 ブルカージャパン株式会社 アプリケーション部 |
14:25~14:45 | 「10 nm の微小異物が分かる - 半導体向けナノ赤外分光装置Dimension IconIR 」 Dimension IconIRは、AFM業界をリードするBrukerのDimension Iconに、10 nm空間分解能を誇るnanoIRの赤外分光能を付与した新しい表面解析システムです。ウェハやデバイス上のナノサイズの異物分析・故障解析など様々なナノ化学構造分析に対応します。IconIRには300 mm ウェーハ対応機種や、フォトマスク用の専用アタッチメント等も存在し、また、多様なAFM測定モードによる多角的な表面ナノ分析および、KLARFファイルを介した分析装置間の連携による高度なデバイス分析など様々な分析アプリケーションに対応可能です。 ブルカージャパン株式会社 アプリケーション部 アプリケーションエンジニア 横川 雅俊 |
14:45~14:55 | クロージング(Q&A) |
登録フォーム ※対応ブラウザ Google Chrome, Edge, Firefox |
TEL:03-3523-6361 / FAX : 03-3523-6364