「半導体研究開発向け：表面形状・欠陥計測からナノスケール機械特性・電気特性評価への応用」

　
　研究開発から量産工程のQA/QC/FAのための費用対効果の高いDimension® HPIとPRO原子間力顕微鏡（AFM）は、レシピによる多点自動測定と高スループットを提供します。小型AFMにも関わらず最大300mmウェハー全面アクセス対応の大量生産環境向けに設計されており、品質管理・品質保証・故障解析のための簡単な操作性と低コストを実現しています。L＆S・Via・欠陥形状測定からデバイス上のナノスケール弾性率測定、キャリア濃度・PN極性等の電気的測定など多様なAFM計測手法について紹介します。

ブルカージャパン株式会社 ナノ表面計測事業部　アプリケーションエンジニア　鈴木 操　

「半導体研究開発向け：10 nm の微小異物が分かる - ナノ赤外分光装置Dimension IconIR -」　

　
　Dimension IconIRは、AFM業界をリードするBrukerのDimension Iconに、10 nm空間分解能を誇るnanoIRの赤外分光能を付与した新しい表面解析システムです。ウェーハやデバイス上のナノサイズの異物分析・故障解析など様々なナノ化学構造分析に対応します。IconIRには300 mm ウェーハ対応機種や、フォトマスク用の専用アタッチメント等も存在し、また、多様なAFM測定モードによる多角的な表面ナノ分析および、KLARFファイルを介した分析装置間の連携による高度なデバイス分析など様々な分析アプリケーションに対応可能です。

ブルカージャパン株式会社 ナノ表面計測事業部　アプリケーションエンジニア　横川　雅俊

「半導体製造ライン向け：表面形状及び欠陥測定用全自動高速（原子間力）顕微鏡」

　AFM（原子間顕微鏡）は表面の3次元測定用の顕微鏡です。 このウェビナーを通じて弊社の半導体製造環境でのインライン測定ソリューションを紹介します。CMP後のプロセス評価測定に効果的な長距離プロファイリングや広域AFM測定、L＆Sトレンチ側壁形状測定、等のお役に立つ測定などを紹介します。

ブルカージャパン株式会社　ナノ表面計測事業部　アプリケーションエンジニア　新出　誠

「半導体製造ライン向け：X線を使用した各種全自動測定システムとウェハ洗浄機の紹介」

　Siウエハーを使用した半導体向けの、前工程用全自動X線検査システムラインナップ(XRR、XRF、XRD、XRDI,TXRF,XCD)、Cryogenicウエハークリーニングシステム、後工程におけるPackaging微細接続解析用X線イメージングシステムを紹介します。

ブルカージャパン株式会社　ナノ表面計測事業部　セールスマネージャー　植松　孝則